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      慶祝我公司雙面刷洗機(jī)研制成功
       2013年01月26日 |閱讀次數(shù):1501

        2012年5月我公司開始研制雙面刷洗機(jī)。早期的濕法清洗不僅不能清除半導(dǎo)體晶片表面的亞微米粒子,而且對片子表面的破壞作用極為嚴(yán)重。而雙面刷洗機(jī)對清除亞微米粒子非常有效,而且不破壞硅片表面,清洗效果最好。本公司已在2012年12月成功研制出該設(shè)備并順利投入清洗市場。

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